close

    Плазмохимия (1)

    Лаборатория вакуумных технологий разрабатывает и реализует технологическое оборудование  для реализации следующих методов обработки поверхности:

    Плазмохимические процессы реализованы в установках серии Ника-2014 и модификациях МО/МТ серий Ника-2012 и Ника-2013.

    ООО «ЛВТ» разработало высокоэффективный плазмохимический реактор для обработки полупроводниковых подложек диаметром до 200 мм в высокоплотной плазме безэлектродного ТСР разряда. Частота ВЧ-генератора — 13.56 МГц. Рабочее давление в процессах травления и осаждения — 0.1 — 10 Ра. Состав газов — произвольный.

    Достигнутые скорости травления по кварцу — 6 мкм/мин.

    Скорости осаждения по SiO2 – до 1 мкм/мин.

    Разработана малогабаритная шлюзовая установка Ника-2014 для проведения этих процессов.

    Навигация по сайту