close

    Нанесение покрытий

    Лаборатория вакуумных технологий производит технологическое оборудование для следующих методов нанесения покрытий:


      Осаждение материалов в ионизованном состоянии (Ionized Physical Vapour Deposition) — напыление при котором часть материала поступает на подложку в иониозованном состоянии. Это позволяет управлять напрвленностью потока материала для предотвращения запыления боковых стенок профиля (например, для реализации врывного напыления). Кроме того, приложение к подложке значительного отрицательного потенциала приводит к взаимной диффузии материалов подложки и плёнки.
    Термическое испарение в газовом разряде (ТИГР) - метод нанесения покрытий, заключающийся в испарении материала путём его нагрева различными видами газового разяда. В зависимости от вида разряда существует несколько вариантов метода. Во всех вариантах преимущества термического испарения (высокая скорость процесса, отсутствие капельной фазы) сочетается с преимуществами, которые даёт наличие газоразрядной плазмы: адгезия, плотная структура плёнки, возможность проведения реактивных процессов. 
    Ионное ассистирование — метод модификации напыляемых покрытий ионно-плазменным потоком с регулируемой энергетикой. Благодаря ионной бомбардировке происходит повышение плотности и адгезии напыляемых слоёв, стимуляция роста кристаллической структуры.
    Осаждение термическим испарением производится путём резистивного или электроннолучевого разогрева тигля или лодочки с напыляемым материалом. Данный способ обладает наибольшим КПД, то есть затраты энергии на один испарённый атом близки к теоретическому минимуму. В связи с высокой скоростью процесса, данный метод устойчив к большому газовыделению в ходе напыления, что позволяет наносить покрытия на лакированные и полимерные подложки.  
    Магнетронное напыление позволяет наносить металлические и полупроводниковыеслои со скоростью до 0,1 мкм/мин, обеспечивая плотную кристаллическую структуру напылённой плёнки и высокую адгезию к широкому ряду материалов подложки. Позволяет получить высокую однородность по загрузке и устойчивую повторяемость в серии процессов.Полностью отсутствует капельная фаза. Процессы магнетронного напыления — одна из базовых компетенций Лаборатории вакуумных технологий.

    Навигация по сайту