Берлин Е.В., Коваль Н.Н., Сейдман Л.А. «Плазменная химико-термическая обработка поверхности стальных деталей»Берлин Е.В., Коваль Н.Н., Сейдман Л.А. «Плазменная химико-термическая обработка поверхности стальных деталей». - М., Техносфера, 2012. - 464 с.

    Книга представляет собой подробное справочное руководство по основам плазменной химико-термической обработки поверхности стальных деталей. В ней обобщены сведения о современном развитии этих технологических процессов, теоретические основы и методы их проведения. Детально проанализированы виды оборудования и принципы его конструирования для достижения высокой производительности, воспроизводимости и однородности обработки. Описаны варианты плазменной химико-термической обработки, отличающиеся видом элемента, насыщающего приповерхностные слои детали.

    Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием и разработкой процессов упрочнения стальных деталей, используемых в устройствах различного назначения, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования для химико-термической обработки. Она также будет полезна в качестве учебного пособия студентам старших курсов и аспирантам соответствующих специализаций.

    ISBN: 978-5-94836-328-8

    Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А.: «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок»Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А.: «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок». - М., Техносфера, 2007. - 176 с.

    В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного магнетронного напыления, принципы построения и применения среднечастотных источников питания для реактивного магнетронного напыления. Приведены теоретические основы и физические принципы конструирования нового типа источника высокочастотного разряда низкого давления для ионного или плазменного травления тонких пленок и/или их стимулированного плазмой осаждения.

    Книга рассчитана на специалистов научно-исследовательских лабораторий, конструкторских бюро и производственных подразделений предприятий, занимающихся разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и оборудования для их производства.

    Страница 2 из 2