Доклады

    Генераторы плазмы малых размеров, позволяющие создавать в замкнутых объемах высокую концентрацию заряженных частиц, крайне востребованы в ряде технологических задач, например, в производстве полупроводниковых интегральных схем с размерами элементов 0,06—0,1 мкм. Для создания таких элементов и получения заданного рисунка малых размеров, используется реактивное ионное травление.

    Проведены исследования параметров плазмы и электрофизических параметров разработанного в ООО «Лаборатория Вакуумных Технологий» высокоэффективного генератора плазмы на основе индукционного разряда с плоской возбуждающей катушкой и магнитным полем (Радиочастотный плазменный генератор РПГ-128). Частота питающего генератора — 13.56 МГц.

    Его основные отличия — металлический корпус, который обеспечивает удобство размещения и эксплуатации, а также постоянство геометрии активных элементов устройства, что гарантирует воспроизводимость параметров генератора плазмы вовремя всего срока эксплуатации.

    В вакуумных технологических установках имеются условия для возникновения сильных высокочастотных помех, источниками которых могут являться как современные импульсные блоки питания и высокочастотные генераторы, так и специфические разрядные процессы в вакуумных технологических устройствах, в частности, обрыв сильноточной дуги. Такие помехи, как правило, имеют широкий частотный спектр и на отдельных частотах могут иметь очень значительную амплитуду. Автор, в частности, наблюдал искровые пробои на воздухе между двумя заземлёнными частями одной и той же установки, возникающими при обрыве сильноточной дуги. 

     Кварц, как плавленный, так и монокристаллический, обладающий выраженным пьезоеффектом очень важный материал для создания изделий микромеханики и электроники. Важным качеством этого материала является сочетание высокой термостабильности с низким коэффициентом термического расширения Плазмохимическое травление кварца, с присушим этому методу высоким разрешением, отсутствием анизотропии скоростей травления по кристаллическим осям — перспективный процесс для создания приборов MEMS нового поколения, кварцевых резонаторов оригинальной конструкции полупроницаемых мембран и т.д.

    Добрый день, меня зовут Василий Григорьев, я представляю компанию ООО «Лаборатория вакуумных технологий». Мы занимаемся разработкой и производством технологических устройств и полноценных установок для технологий ионно­плазменной обработки, вакуумного напыления, плазмохимии, электроннолучевого переплава. Безэлектродная плазма индуктивного высокочастотного разряда является универсальной средой для проведения широкого спектра технологических процессов — ионное и плазмохимическое травление, осаждение материалов (в том числе реактивное), ионно­плазменная обработка поверхности (полировка, азотирование, карбидизация и т. п. ) и т. д. Для широкого применения таких процессов необходимо универсальное технологическое устройство — генератор плазмы, ­ которое отвечает требованиям, предъявляемым в промышленном производстве.

    Презентация Григорьева Василия Юрьевича для посетителей 13-й Международной выставки технологий, оборудования и материалов для обработки поверхности и нанесения покрытий ЭкспоКоатинг-2015, 28 октября 2015 года, посвящённая краткому обзору современных методов нанесения покрытий в вакууме.

    Доклад заместителя директора по науке Григорьева Василия Юрьевича на 22-й Всероссийской научно-технической конференции «Вакуумная Техника и Технологии – 2015», (ЛЭТИ, Санкт-Петербург), посвященный вакуумным установкам для напыления покрытий Ника-2012 и Ника-2013. 

    Доклад генерального конструктора Берлин Евгения Владимировича на 22-й Всероссийской научно-технической конференции «Вакуумная Техника и Технологии – 2015», (ЛЭТИ, Санкт-Петербург), посвященный особенностям организации производства вакуумной техники в России и вопросам импортозамещения.