Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок

    Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А.: «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок»Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А.: «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок». - М., Техносфера, 2007. - 176 с.

    В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного магнетронного напыления, принципы построения и применения среднечастотных источников питания для реактивного магнетронного напыления. Приведены теоретические основы и физические принципы конструирования нового типа источника высокочастотного разряда низкого давления для ионного или плазменного травления тонких пленок и/или их стимулированного плазмой осаждения.

    Книга рассчитана на специалистов научно-исследовательских лабораторий, конструкторских бюро и производственных подразделений предприятий, занимающихся разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и оборудования для их производства.