Генераторы плазмы малых размеров, позволяющие создавать в замкнутых объемах высокую концентрацию заряженных частиц, крайне востребованы в ряде технологических задач, например, в производстве полупроводниковых интегральных схем с размерами элементов 0,06—0,1 мкм. Для создания таких элементов и получения заданного рисунка малых размеров, используется реактивное ионное травление.

    Проведены исследования параметров плазмы и электрофизических параметров разработанного в ООО «Лаборатория Вакуумных Технологий» высокоэффективного генератора плазмы на основе индукционного разряда с плоской возбуждающей катушкой и магнитным полем (Радиочастотный плазменный генератор РПГ-128). Частота питающего генератора — 13.56 МГц.

    Его основные отличия — металлический корпус, который обеспечивает удобство размещения и эксплуатации, а также постоянство геометрии активных элементов устройства, что гарантирует воспроизводимость параметров генератора плазмы вовремя всего срока эксплуатации.

    Проведены исследования параметров плазмы и электрофизических параметров разработанного в ООО «Лаборатория Вакуумных Технологий» высокоэффективного генератора плазмы на основе индукционного разряда с плоской возбуждающей котушкой и магнитным полем (рабочее название РПГ-128). Частота питающего генератора — 13.56 МГц.

    В вакуумных технологических установках имеются условия для возникновения сильных высокочастотных помех, источниками которых могут являться как современные импульсные блоки питания и высокочастотные генераторы, так и специфические разрядные процессы в вакуумных технологических устройствах, в частности, обрыв сильноточной дуги. Такие помехи, как правило, имеют широкий частотный спектр и на отдельных частотах могут иметь очень значительную амплитуду. Автор, в частности, наблюдал искровые пробои на воздухе между двумя заземлёнными частями одной и той же установки, возникающими при обрыве сильноточной дуги. 

     Кварц, как плавленный, так и монокристаллический, обладающий выраженным пьезоеффектом очень важный материал для создания изделий микромеханики и электроники. Важным качеством этого материала является сочетание высокой термостабильности с низким коэффициентом термического расширения Плазмохимическое травление кварца, с присушим этому методу высоким разрешением, отсутствием анизотропии скоростей травления по кристаллическим осям — перспективный процесс для создания приборов MEMS нового поколения, кварцевых резонаторов оригинальной конструкции полупроницаемых мембран и т.д.

    Добрый день, меня зовут Василий Григорьев, я представляю компанию ООО «Лаборатория вакуумных технологий». Мы занимаемся разработкой и производством технологических устройств и полноценных установок для технологий ионно­плазменной обработки, вакуумного напыления, плазмохимии, электроннолучевого переплава. Безэлектродная плазма индуктивного высокочастотного разряда является универсальной средой для проведения широкого спектра технологических процессов — ионное и плазмохимическое травление, осаждение материалов (в том числе реактивное), ионно­плазменная обработка поверхности (полировка, азотирование, карбидизация и т. п. ) и т. д. Для широкого применения таких процессов необходимо универсальное технологическое устройство — генератор плазмы, ­ которое отвечает требованиям, предъявляемым в промышленном производстве.

    В связи с ростом объема работ по разработке новых технологий изготовления полупроводниковых приборов, возможности стандартных вакуумных установок часто становятся недостаточными, из-за разнообразных требований к наносимым покрытиям и их свойствам.

    Особенно не хватает возможностей напыления в одном вакуумном цикле многослойных покрытий, включая диэлектрические и магнитные слои с точно контролируемой толщиной и периодичностью. Для решения этой задачи была создана установка ионного распыления с ассистированием распыляемого материала высокоплотной плазмой безэлектродного ВЧ разряда.

    Презентация Григорьева Василия Юрьевича для посетителей 13-й Международной выставки технологий, оборудования и материалов для обработки поверхности и нанесения покрытий ЭкспоКоатинг-2015, 28 октября 2015 года, посвящённая краткому обзору современных методов нанесения покрытий в вакууме.

    Потребность в вакуумном технологическом оборудовании на отечественном рынке за счёт импорта готовых установок связана со значительными затратами и большими рисками. Лаборатория вакуумных технологий стремится стать отечественным поставщиком полного цикла и соответствовать курсу на импортозамещение. На этом пути мы сделали следующие шаги:

    • разработали практически полный спектр технологических устройств от простых и примитивных, вроде термических испарителей, до не имеющих мировых аналогов радиочастотных генераторов плазмы;

    • разработали несколько типов вакуумных постов и наладили их серийное производство;

    • внедрили ряд уникальных технологий и вывели на рынок промышленное оборудование, пригодное для их применения в различных отраслях производства.

    В ходе решения этих задач нами сформулирована концепция построения технологических установок для широкого спектра применений. При этом подтвердились отдельные всеобщие принципы, к которым независимыми путями пришли и иностранные производители.

    На отечественном рынке вакуумного оборудования существует острая потребность в производителях полного цикла, обеспечивающих разработку и поставку технологического оборудования «под ключ» с полноценным послепродажным сопровождением. К принципам компоновки и построения современных вакуумных установок предъявляется ряд требований, вытекающих из необходимости постановки серийного производства отдельных компонентов, универсальности и гибкости конфигурации.

    Ключевые слова: электронное машиностроение, вакуумная техника, напылительное оборудование, импортозамещение.

    MODERN REQUIREMENTS FOR VACUUM TECHNOLOGICAL EQUIPMENT

    There is an urgent need in complete cycle manufacturers that provide development and production of ready technological equipment along with sales maintenance in Russian market. There is a number of requirements to configuration and production of modern vacuum technological equipment that are determined by stock production.

    Keywords: vacuum technological equipment, coating deposition, import substitution

    Страница 1 из 2