Магнетроны

     Магнетронные распылительные системы (магнетроны) предназначены для нанесения различных материалов: металлов, сплавов, а также диэлектриков из металлических и полупроводниковых мишеней в реактивном режиме.

    Предлагаются также специализированные магнетроны для распыления диэлектрических мишеней при питании от ВЧ-генератора, мишеней из магнитных материалов, сверхскоростного напыления металлов термическим испарением в магнетронном разряде.

    Специальная конфигурация магнитной системы позволяет получать ионный поток на подложку, обеспечивающий плотную структуру напыляемой плёнки и высокую адгезию. Высокое качество напыляемых покрытий обеспечивается также низким рабочим давлением наших магнетронов (от 0,07 Па). В зависимости от технологических задач, магнетроны выпускаются с магнитными системами, имеющими различную степень разбалансированности. Магнитная система может быть выполнена перемещающейся, что позволяет увеличить тем самым процент выработки мишени.

    Выпускаются магнетроны круглые, с диаметром мишени 100 мм. и протяженные, с длиной мишени от 145 до 800 мм. и шириной мишени 80 или 100 мм. Толщина мишени может составлять до 20 мм на протяженных магнетронах и до 10 мм на круглых.

    Мишенедержатель и магнитная система имеют независимые друг от друга каналы охлаждения. Отвод тепла от магнитов обеспечивается с помощью охлаждаемого шунта, исключая таким образом контакт магнитов с водой, увеличивая тем самым срок их службы.

    Для удобства размещения магнетронов в рабочем объеме вакуумной камеры есть специальное исполнение, в котором питание и охлаждающая жидкость к магнетрону подводится через гибкую герметичную сильфоновую подводку. Круглые магнетроны имеют также исполнение со встроенной заслонкой и приводом заслонки, размещенном в герметичном корпусе магнетрона (вариант с заслонкой показан на видео). В сочетании с гибкой сильфоновой подводкой, это обеспечивает свободу размещения магнетронов в объеме вакуумной камеры.

    По рабочим диапазонам давлений магнетроны совместимы с другими технологическими устройствами, выпускаемыми ООО “ЛВТ”, такими как источники ионов с холодным катодом и радиочастотными генераторами плазмы (РПГ). Совместное использование этих устройств (магнетронов с РПГ) позволяет применять их в технологии I-PVD (ionized physical vapor deposition), которая в настоящее время считается наиболее перспективной для напыления слоев различных материалов с высоким качеством покрытий и напылением высокоаспектных рельефов.

    Похожие материалы (по тегу)

     


    Протяжённые (линейные) магнетроны - устройства, предназначенные для распыления прямоугольных мишеней Назначение: нанесение ионным распылением различных материалов: металлов, сплавов, а также диэлектриков в реактивном режиме.
    Круглые магнетроны - устройства, предназначенные для распыления круглых мишеней Назначение: эффективное распыление мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда, нанесение металлов, сплавов и диэлектриков в реактивном режиме.