Ника-2014

    Серия «Ника»-2014. Шлюзовые плазмохимические установки для процессов травления или осаждения в среде высокоплотной плазмы. Рабочая камера Ø350х300 мм, радиочастотный генератор плазмы РПГ-250. Охлаждаемый или нагреваемый стол с гелиевым теплоотводом, магнитная система специальной конфигурации, обеспечивающая равномерность обработки ±2% на диаметре 200 мм. 

    Электропитание: 380 В, 50 Гц, 10 кВт

    Габариты: 1200х850х1500. Масса 300 кг.

    Похожие материалы (по тегу)

     


    Назначение: Плазмохимическое травление полупроводников и диэлектриков в среде высокоплотной плазмы. Технологии:  травление микроструктур в полупроводниковом производстве, MEMS технологии, оптике.  скорость травления по кремнию — до 40 мкм/мин, GaAs – до 40 мкм/мин, SiO2 – до 6 мкм/мин. глубокое травление кремния с вертикальным профилем стенок и большим аспектным отношением. Состав: генератор плазмы РПГ-250; охлаждаемый стол (гелиевый теплоотвод) с подачей высокочастотного смещения; оптическая система контроля скорости и глубины травления. 
    Назначение: Плазмохимическое осаждение диэлектриков. Технологии:   осаждение SiO2, SiN, αCH, металлов и металлоорганических соединений; оптический контроль скорости и толщины осаждения.  Состав: генератор плазмы РПГ-250; охлаждаемый или нагреваемый стол с гелиевым теплоотводом; система газораспределения для равномерного осаждения.