Ника-2013

    Серия «Ника-2013»: промышленные напылительные установки большой производительности. Современный аналог машин серий УВН-73..75.

    Цилиндрическая камера с горизонтальной осью из нержавеющей стали Ø700х500 мм с рубашкой охлаждения. Сухая (безмасляная) откачка (криогенный или турбомолекулярный насос, сухой спиральный насос). Система горизонтального перемещения фланцев для удобства перегрузки и обслуживания. Сменный комплект носителей для снижения затрат времени на перезагрузку.

    Задний фланец: семь позиций ISO63 для технологических устройств: до четырёх магнетронов, нагреватель, ионный источник.

    Передний фланец: барабан диаметром 600 мм с горизонтальной осью, автоматическая система привода заслонок. Обработка с однородностью не хуже 2%, 128 подложек 60х48, 48 подложек Ø100. Возможность установки до четырёх окон, оборудованных заслонками. Вместо любого из окон может устанавливаться фланец ISO100 для дополнительного оборудования: 7 позиций для устройств: до четырёх магнетронов, нагреватель, ионный источник. Загрузка: 128 прямоугольных подложек 60x48 либо 48 круглых диаметром 100.

    Электропитание: 380 В, 50 Гц, 20..25 кВт

    Габариты: 1600х1600х1900.

    Масса: 800 кг.

    В серии Ника-2013 разработаны 3 модификации: напылительные установки РС (резистивные слои) и ПС (проводящие слои), плазмохимические МО/МТ (магнетронное осаждение/травление).

     

    Похожие материалы (по тегу)

     


    Назначение: напыление резистивных слоев, ионная очистка и травление Технологии:  магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней; нанесение слоёв сложного состава сонапылением из двух мишеней; ионная очистка и травление слоёв; нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя; напыление/травление заданного номинала по свидетелю сопротивления. Состав:  барабан для одностороннего нанесения; до четырёх магнетронов для напыления подслоя, резистивного слоя (из металлических или силицидных мишеней) и защитного слоя; источник ионов для активации подложек и травления слоёв; нагреватель с функцией поддержания заданной температуры. 3..4 канала подачи рабочих…
    Установка для нанесения толстых металлических слоёв методом магнетронного распыления.  Назначение: нанесение толстых металлических слоёв методом термовакуумного испарения в магнетронном разряде на керамические подложки. Для обеспечения адгезии проводящего слоя предусмотрено напыление металлического (Cr, Ti, Ta) или диэлектрического подслоя. В последнем случае обеспечивается минимальные резистивные потери в СВЧ схемах. Технологии:  ионная очистка подложек; магнетронное распыление металлических мишеней; магнетронное распыление магнитных материалов (никель); термовакуумное испарение в магнетронном разряде с высокой скоростью нанесения (до 1 мкм/мин на вращающуюся карусель, до 60 мкм полной толщины…
    Установка для ионной и плазмохимической обработки подложек в среде высокоплотной плазмы.   Назначение: Подложки размещаются на внешней поверхности шестигранного электрода с гелиевым теплоотводом, cнаружи которого зажигается высокочастотный магнетронный разряд с высокой однородностью плотности ионного тока. Разряд в среде инертных или химически активных газов. Размер зоны обработки на каждой грани  — 300х300 мм. Подложки от 25 до 300 мм. Технологии: плазмостимулированное осаждение из газовой фазы (PECVD) диэлектрических слоев различных материалов в атмосфере кремнийсодержащих газов в высокочастотном магнетронном разряде; плазмохимическое травление материалов в…
    Малогабаритная промышленная установка большой производительности с горизонтальной камерой. Выпускается в двух модификациях: ПС-О (проводящие слои с охлаждением) и МО/МТ (магнетронное осаждение/травление). Назначение: магнетронное травление проводящих и диэлектрических слоёв (МО/МТ); напыление многослойных покрытий на охлаждаемую подложку для ионно-плазменного и плазмохимического травления различных проводящих и диэлектрических слоёв (ПС-О). Подложки 60x48 мм либо диаметром 100 мм. Технологии: Ионно-плазменное травление, плазмохимическое травление (MT), плазмохимическое осаждение (PECVD) (МО), напыление проводящих, резистивных и диэлектрических слоёв на охлаждаемую подложку, ионное травление (ПСО), PVD. Состав: Машина имеет цилиндрическую…