Установка ионного напыления Ника-2012 ИН

    Nika2012_IBD Nika2012_IBD

    Шлюзовая установка для контролируемого нанесения многослойных покрытий из шести проводящих или диэлектрических мишеней в произвольном порядке с ассистированием процесса нанесения плазмой высокой плотности (IPVD). Возможно нанесение как в среде инертного газа, так и реактивные процессы напыления соединений. 

    Назначение: напыление плёнок произвольного состава (металлы, диэлектрики, полупроводники) на подложки до 100 мм диаметром с контролем толщины с помощью кварцевого измерителя. В автоматическом режиме напыляется неограниченное количество слоев из шести различных мишеней в программируемой последовательности. Установка шлюзовая с индивидуальной загрузкой подложек. Подложка размещена в вертикальной плоскости на нагреваемом подложкодержателе, который вращается с регулируемой скоростью вокруг продольной оси. Возможна комплектация с охлаждаемым или нагреваемым столом с гелиевым теплоотводом. Для повышения скорости распыления проводящих мишеней предусмотрена возможность подачи среднечастотного смещения на мишень. 

    Технологии: 

    1. ионно-лучевое распыление проводящих и диэлектрических мишеней, 
    2. катодное распыление проводящих мишеней,
    3. реактивное напыление диэлектриков, ионное осаждение.

    Состав:

    1. шлюз для быстрой перезагрузки подложек;
    2. нагреваемый или охлаждаемый держатель подложек с вращением;
    3. источник ионов ИИ-52 для распыления мишеней;
    4. генератор плазмы РПГ-128 для очистки подложек, катодного распыления и ионного ассистирования;
    5. поворотный охлаждаемый держатель мишеней на 6 позиций;
    6. до четырёх каналов подачи рабочих газов.

    Основной метод напыления - ионно-лучевой.

    Ионным источником служит газоразрядный источник с холодным катодом ИИ-52, имеющий малую расходимость ионного пучка трубчатого сечения. Исходный диаметр пучка — 20 мм. Ток разряда — 100 мА при напряжении на аноде - «+» 3кВ.

    В рабочей камере из нержавеющей стали расположен поворотный водоохлаждаемый 6-позиционный мишенедержатель. Диаметр мишеней — до 100 мм. Размер проекции ионного пучка на мишени — 25х50 мм. Толщина мишени — до 6 мм. Угол падения ионного пучка на мишень — 36 градусов к плоскости мишени. Для увеличения скорости распыления проводящих мишеней, на мишенедержатель может подаваться отрицательное смещение напряжением до 800 В.

    В качестве ассистирующего плазменного генератора используется РПГ-128 с автоматическим согласующим устройством СУРА. Это устройство может создавать в произвольном составе газов безэлектродную плазму высокой концентрации. В сочетании с ионно-лучевым распылением такая плазма значительно улучшает параметры напыляемых пленок, в том числе в реактивных режимах. Раздельная подача газов в ионный источник и радиочастотный плазменный генератор позволяет оптимизировать процессы реактивного напыления при максимальной скорости процесса напыления.

    Установка может в автоматическом режиме производить напыление неограниченного количества слоев шести различных материалов в программируемой последовательности.