The process of composite films deposition, with simultaneous control of their quality, requires implementation of various a complex devices. Besides, in the case of optical films deposition, a very stable process without impurities via very long time is required.

    A novel radio frequency induction plasma source generator, is developed by “Laboratory of vacuum technologies, Itd”, to fit requirements of long term stable operation, without contamination of the generated plasma by electrode’s material.

    Plasma sources are widely used in different plasma-assisted processes, which are surface modification and cleaning, ion assisted deposition and many others. Most plasma sources are based on discharges, that require electrodes immersed into plasma. These elements interact with plasma and may be eroded or coated with dielectrics. To protect plasma from an influence of erosion products of the electrodes, additional technical methods are needed, thereby increasing complexity of the plasma source.

    Генераторы плазмы малых размеров, позволяющие создавать в замкнутых объемах высокую концентрацию заряженных частиц, крайне востребованы в ряде технологических задач, например, в производстве полупроводниковых интегральных схем с размерами элементов 0,06—0,1 мкм. Для создания таких элементов и получения заданного рисунка малых размеров, используется реактивное ионное травление.

    Проведены исследования параметров плазмы и электрофизических параметров разработанного в ООО «Лаборатория Вакуумных Технологий» высокоэффективного генератора плазмы на основе индукционного разряда с плоской возбуждающей катушкой и магнитным полем (Радиочастотный плазменный генератор РПГ-128). Частота питающего генератора — 13.56 МГц.

    Его основные отличия — металлический корпус, который обеспечивает удобство размещения и эксплуатации, а также постоянство геометрии активных элементов устройства, что гарантирует воспроизводимость параметров генератора плазмы вовремя всего срока эксплуатации.

    Проведены исследования параметров плазмы и электрофизических параметров разработанного в ООО «Лаборатория Вакуумных Технологий» высокоэффективного генератора плазмы на основе индукционного разряда с плоской возбуждающей котушкой и магнитным полем (рабочее название РПГ-128). Частота питающего генератора — 13.56 МГц.

    В вакуумных технологических установках имеются условия для возникновения сильных высокочастотных помех, источниками которых могут являться как современные импульсные блоки питания и высокочастотные генераторы, так и специфические разрядные процессы в вакуумных технологических устройствах, в частности, обрыв сильноточной дуги. Такие помехи, как правило, имеют широкий частотный спектр и на отдельных частотах могут иметь очень значительную амплитуду. Автор, в частности, наблюдал искровые пробои на воздухе между двумя заземлёнными частями одной и той же установки, возникающими при обрыве сильноточной дуги. 

     Кварц, как плавленный, так и монокристаллический, обладающий выраженным пьезоеффектом очень важный материал для создания изделий микромеханики и электроники. Важным качеством этого материала является сочетание высокой термостабильности с низким коэффициентом термического расширения Плазмохимическое травление кварца, с присушим этому методу высоким разрешением, отсутствием анизотропии скоростей травления по кристаллическим осям — перспективный процесс для создания приборов MEMS нового поколения, кварцевых резонаторов оригинальной конструкции полупроницаемых мембран и т.д.

    Добрый день, меня зовут Василий Григорьев, я представляю компанию ООО «Лаборатория вакуумных технологий». Мы занимаемся разработкой и производством технологических устройств и полноценных установок для технологий ионно­плазменной обработки, вакуумного напыления, плазмохимии, электроннолучевого переплава. Безэлектродная плазма индуктивного высокочастотного разряда является универсальной средой для проведения широкого спектра технологических процессов — ионное и плазмохимическое травление, осаждение материалов (в том числе реактивное), ионно­плазменная обработка поверхности (полировка, азотирование, карбидизация и т. п. ) и т. д. Для широкого применения таких процессов необходимо универсальное технологическое устройство — генератор плазмы, ­ которое отвечает требованиям, предъявляемым в промышленном производстве.

    В связи с ростом объема работ по разработке новых технологий изготовления полупроводниковых приборов, возможности стандартных вакуумных установок часто становятся недостаточными, из-за разнообразных требований к наносимым покрытиям и их свойствам.

    Особенно не хватает возможностей напыления в одном вакуумном цикле многослойных покрытий, включая диэлектрические и магнитные слои с точно контролируемой толщиной и периодичностью. Для решения этой задачи была создана установка ионного распыления с ассистированием распыляемого материала высокоплотной плазмой безэлектродного ВЧ разряда.

    Потребность в вакуумном технологическом оборудовании на отечественном рынке за счёт импорта готовых установок связана со значительными затратами и большими рисками. Лаборатория вакуумных технологий стремится стать отечественным поставщиком полного цикла и соответствовать курсу на импортозамещение. На этом пути мы сделали следующие шаги:

    • разработали практически полный спектр технологических устройств от простых и примитивных, вроде термических испарителей, до не имеющих мировых аналогов радиочастотных генераторов плазмы;

    • разработали несколько типов вакуумных постов и наладили их серийное производство;

    • внедрили ряд уникальных технологий и вывели на рынок промышленное оборудование, пригодное для их применения в различных отраслях производства.

    В ходе решения этих задач нами сформулирована концепция построения технологических установок для широкого спектра применений. При этом подтвердились отдельные всеобщие принципы, к которым независимыми путями пришли и иностранные производители.

    Page 1 of 2

    Site navigation