Источники ионов

Мы выпускаем источники ионов в двух конфигурациях — круглые, с трубчатым пучком, и протяженные со значительным линейным участком. Погонная плотность ионного тока до 18 мА/см длины щели, или 36 мА/см длины рабочей зоны линейного источника. Диапазон рабочих напряжений - 1..5 кВ. Низкая расходимость пучка позволяет размещать источник вдали от мишени и снизить скорость его запыления. Вторичная плазма и эффект резонансной перезарядки ионов позволяет осуществлять обработку диэлектриков без применения катодов-компенсаторов.

Ника 2012

Установки на базе НИКА-2012 отличает короткий технологический цикл, полная автоматизация, высокая производительность, компактный размер и возможность обрабатывать до 6 подложек Д100 мм одновременно. В машину устанавливается до 4 устройств: термические испарители, магнетроны, ионные источники и генераторы плазмы, могут быть оставлены пустые места. Установки промышленного применения, для исследовательских и образовательных целей.

Блоки и оборудование

Блоки и оборудование вакуумной системы - согласующие устройства переменного импеданса, блоки управления, трансформаторы, системы охлаждения и водоснабжения. Все устройства полностью автоматизированы, с возможностью сохранения параметров испытаний и контроля системы по локальной сети или удаленно через Интернет.

Генераторы плазмы

Безэлектродная плазма индуктивного высокочастотного разряда - универсальная среда для проведения широкого спектра технологических процессов: ионное и плазмохимическое травление, осаждение материалов (в том числе реактивное), ионно-плазменная обработка поверхности (полировка, азотирование, карбидизация) и ряда других. Универсальное технологическое устройство, разработанное - РПГ-250 для создания однородного потока ионов на большой площади, и РПГ-128, позволяющий получить значительно более высокие концентрации плазмы меньшей однородности при той же мощности.

Магнетроны

Наши магнетроны позволяют производить напыление широкого ряда материалов прямо с мишени: металлов, сплавов и диэлектриков в реактивном режиме (SiO₂, Si₃N₄, TiO₂, TiN, ITO, ZnO, Al₂O₃, AlN, MgO, Ta₂O₅, TaN и пр.) Выпускаются магнетроны круглые, с диаметром мишени 100 мм и протяженные, с длиной мишени 145-1200 мм и шириной мишени 80-100 мм. Толщина мишени — до 20 мм на протяженных магнетронах и до 10 мм на круглых.